真空鍍鋁膜的生產工藝:
真空蒸鍍工藝有間接式蒸鍍和直接蒸鍍兩種。直接蒸鍍工藝有間歇式、半連續式和連續式三種設備。連續蒸鍍設備的關鍵是被蒸的基材膜放在真空室外面的，可以自動翻卷換卷，它同真空室通過氣鎖( air lock)或者動力泵室( dynamics pumped chamber)的密封縫隙使基材膜進出。氣鎖有良好的密閉性，因而可以連續地進行蒸鍍。而不會影響高真空室中
的真空度。
間歇式工藝的優點是 : (1) 投資成本比較低; (2) 系統可以容易地根據不同的基材和部件重新安放支架，易變換真空室中的部件; (3) 很容易變更蒸發系統來適應不同基材的不同蒸鍍金屬; (4) 操作和維修保養都比較簡單;(5)設備可靠性大，無需特別的設計。最大的缺點是開始生產時為了把墻壁和機械件上的水蒸氣排出，需要較長的時間，能量的利用率低。
連續式工藝的優點是: (1) 生產效率比較高，不需要重新啟動所需的時間和泵到高真空時的能量; (2) 涂布質量較高，針孔比較少; (3) 成本比較低，由于節省了重新啟動泵抽到高真空的能量，為此，可節省電能。最大缺點是設備投資大，而且需要專門的技術，維修保養要求技術高。蒸鍍膜的基材寬度在609.6～2133.6mm，薄膜通過力矩馬達來自動控制放卷和收卷的速度，使之始終有一個均勻的恒定的線速度，因而有一個均勻的鍍膜厚度。鍍膜厚度靠鋁絲的揮發速度、薄膜的線速度來調控。提高熔融坩堝電流量，放大熔融氣化速度，可以使鍍層厚度提高，相反，提高薄膜收放卷速度，則使鍍層厚度減小。薄膜收放卷是用兩只同步力矩馬達帶動的。